2. Odmašťování, čištění a snímání povlaků
Pro účely této přílohy se rozumí:
a) odmašťováním - technologický proces, v němž dochází k odmaštění, případně čištění výrobních polotovarů a produktů pro následné technologické operace. Odmaštění je aplikováno jako mezioperační krok, případně jako odmaštění pro následné technologické procesy, zejména povrchové úpravy.
b) čištěním - technologický proces, v němž dochází k čištění produktu pro další technologie, případně ke snímání povlaků, zejména odlakovávání; jedná se hlavně o čištění před demontáží, repasemi apod., od nečistot vzniklých provozováním dílů, případně jejich užíváním. Nezahrnuje procesy čištění pracovních prostorů ani čištění zařízení, pokud není uvedeno jinak,
c) odmašťovnou - technická zařízení a technologie pro odmašťování kovů a nekovových materiálů odmašťovacími prostředky s obsahem organických rozpouštědel. Zařízení je tvořeno uzavřeným prostorem s odsáváním odpadního plynu, případně je odmaštění prováděno v prostoru pro nástřik nátěrových hmot - stříkacích lakovacích kabinách. Pro takto konstruované odmašťovny je nutno dodržovat předepsané emisní limity,
d) odmašťováním mimo prostory odmašťoven nebo lakoven - odmašťovací procesy, které se uskutečňují mimo prostory odmašťoven nebo lakoven, jsou provozovány tak, aby emise těkavých organických látek byly minimalizovány. Odmašťování smí být provozováno ve vymezených prostorách s využitím odmašťovacích stolů nebo podobných zařízení. Použitá rozpouštědla jsou shromažďována, uchovávána a předávána k regeneraci či řízené likvidaci, případně jinak využita v jiném technologickém procesu. Odmašťování rozměrných dílů na volném prostranství lze provádět pouze na základě povolení obecního úřadu, který stanoví podmínky aplikace. Odmašťování a čištění dále zahrnuje činnosti a operace uvedené v příloze č. 1 k této vyhlášce. Hodnoty prahové spotřeby rozpouštědla a emisní limity těchto činností jsou určeny typem použitých rozpouštědel.
2.1 Odmašťování a čištění povrchu kovů, elektrosoučástek a jiných materiálů a výrobků organickými rozpouštědly obsahujícími látky karcinogenní, mutagenní a toxické pro reprodukci podle § 3 písm. a) a halogenovanými organickými rozpouštědly podle § 3 písm. b)
2.1.1 Odmašťování a čištění povrchu kovů, elektrosoučástek a jiných materiálů a výrobků organickými rozpouštědly s látkami karcinogenními, mutagenními a toxickými pro reprodukci podle § 3 písm. a) a halogenovanými organickými rozpouštědly podle § 3 písm. b) nesmí být prováděno mimo uzavřený prostor s odsáváním odpadního plynu. Tato zařízení musí být vybavena systémem záchytu par s úplnou recyklací organických rozpouštědel za dodržení podmínek uvedených v následující tabulce.
2.1.2 Odmašťovna s roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel podle § 3 písm. a) nebo podle § 3 písm. b) této vyhlášky do 1 tuny je střední zdroj. Pokud je celková roční spotřeba uvedených rozpouštědel menší než 100 kg, není emisní limit touto vyhláškou stanoven; krajský úřad může v odůvodněných případech emisní limit stanovit (§ 17 odst. 2 písm. f) zákona).
2.1.3 Odmašťovna s celkovou roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel s látkami karcinogenními, mutagenními a toxickými pro reprodukci podle § 3 písm. a) nebo b) této vyhlášky nad 1 tunu je velký zdroj.
Prahové spotřeby rozpouštědel a emisní limity jsou stanoveny takto:
+-------------------------------------+-------------------+---------------+------------------+
| činnost | prahová spotřeba | emisní limit | emisní limit |
| | rozpouštědla | VOC | fugitivních |
| | | A) | emisí |
| | | | B) |
| +-------------------+---------------+------------------+
| | t/rok | mg/m3 | % |
+-------------------------------------+-------------------+---------------+------------------+
| odmašťování a čištění povrchů | 0,1 až 1 | 20 (2) C) | 15 |
| organickými rozpouštědly podle § 3 | | | |
| písm. a) nebo b) | | | |
| +-------------------+---------------+------------------+
| | 1 až 5 | 20 (2) C) | 15 |
| +-------------------+---------------+------------------+
| | > 5 | 20 (2) C) | 10 |
+-------------------------------------+-------------------+---------------+------------------+
Poznámka:
A. Hmotnostní koncentrace těkavých organických látek ve vlhkém odpadním plynu vyjádřená pro normální stavové podmínky.
B. Podíl hmotnosti fugitivních emisí a hmotnosti vstupních rozpouštědel.
C. Číslo v závorce uvádí emisní limit pro těkavé organické látky karcinogenní, mutagenní a toxické pro reprodukci podle § 3 písm. a).
2.2 Odmašťování a čištění povrchu kovů, elektrosoučástek a jiných materiálů a výrobků ostatními organickými rozpouštědly podle § 3 písm. c)
2.2.1 Odmašťovna s celkovou roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel menší než 0,6 tuny je malý zdroj.
2.2.2 Odmašťovna s celkovou roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel v rozsahu od 0,6 tuny do 2 tun je střední zdroj.
2.2.3 Odmašťovna s celkovou roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel nad 2 tuny je velký zdroj.
2.2.4 Odmašťovna splňující definici § 2 písm. c) je zvláště velkým zdrojem znečišťování ovzduší.
2.2.5 Odmašťování mimo prostory odmašťoven nebo lakoven s celkovou roční projektovanou spotřebou organických rozpouštědel do 0,6 tuny je malý zdroj.
Prahové spotřeby rozpouštědel a emisní limity jsou stanoveny takto:
+--------------------------------+-------------------+---------------+---------------+
| činnost | prahová spotřeba | emisní limit | emisní limit |
| | rozpouštědla | TOC | fugitivních |
| | | A) | emisí |
| | | | B) |
| +-------------------+---------------+---------------+
| | t/rok | mg/m3 | % |
+--------------------------------+-------------------+---------------+---------------+
| odmašťování a čištění povrchů | 0,6 až 2 | 75 | 20 |
| organickými rozpouštědly | | | |
| +-------------------+---------------+---------------+
| | 2 až 10 | 75 | 20 |
| +-------------------+---------------+---------------+
| | > 10 | 50 | 15 |
+--------------------------------+-------------------+---------------+---------------+
Poznámka:
A. Hmotnostní koncentrace těkavých organických látek vyjádřených jako celkový organický uhlík ve vlhkém odpadním plynu při normálních stavových podmínkách.
B. Podíl hmotnosti fugitivních emisí a hmotnosti vstupních rozpouštědel.